Nëse 3-amino-5-mercapto-1,2 është thithur, 4-triazol, ju lutemi zhvendoseni pacientin në ajër të pastër; në rast të kontaktit me lëkurën, hiqni rrobat e ndotura dhe lani lëkurën tërësisht me ujë dhe ujë me sapun. Nëse ndiheni jo mirë, kërkoni këshilla mjekësore; nëse keni kontakt të qartë me sytë, ndani qepallat, pije me ujë të rrjedhshëm ose kripë normale dhe menjëherë kërkoni këshilla mjekësore; nëse gëlltitet, bëni gargarë menjëherë, mos shkaktoni të vjella dhe menjëherë kërkoni këshilla mjekësore.

Përdoret për të përgatitur një tretësirë ​​pastrimi fotorezistente

Në procesin e zakonshëm të prodhimit LED dhe gjysmëpërçues, maska ​​e fotorezistencës formohet në sipërfaqen e disa materialeve dhe modeli transferohet pas ekspozimit. Pas marrjes së modelit të kërkuar, fotorezistenca e mbetur duhet të hiqet përpara procesit tjetër. Në këtë proces, kërkohet të hiqet plotësisht fotorezistenca e panevojshme pa gërryerje të asnjë substrate. Aktualisht, solucioni pastrues fotoresist përbëhet kryesisht nga tretës organik polar, alkali i fortë dhe / ose ujë, etj. Fotorezistenca në meshën gjysmëpërçuese mund të hiqet duke zhytur çipin gjysmëpërçues në lëngun pastrues ose duke larë çipin gjysmëpërçues me lëngun pastrues .

Developedshtë zhvilluar një lloj i ri i tretësirës së pastrimit fotorezistent, i cili është një detergjent jo-ujor i gdhendjes së ulët. Ai përmban: amine alkooli, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazol dhe tretës. Kjo lloj solucioni pastrimi fotorezistues mund të përdoret për të hequr fotorezistencën në LED dhe gjysmëpërçues. Në të njëjtën kohë, ajo nuk ka asnjë sulm në substrate, të tilla si alumini metalik. Për më tepër, sistemi ka rezistencë të fortë ndaj ujit dhe zgjeron dritaren e funksionimit. Ka një perspektivë të mirë aplikimi në fushat e pastrimit të çipave LED dhe gjysmëpërçues.